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【文匯專訊】中國首臺具有世界領先水準、擁有自主知識產權的無掩膜光刻機日前在合肥面世。
據新華網報道，由中國工程院院士張鐘華、葉聲華等專家組成的鑒定組在鑒定後認為，芯碩半導體（中國）有限公司的「光刻機」技術，填補了國內光刻機在該項領域的空白，並且在國際同類產品中處於先進水準。
記者從芯碩半導體公司瞭解到，該公司此項技術投入資金５０００萬元，歷經一年時間，兩台光刻機已於去年１２月正式下線，其解析度已達到０．６５微米。相對於同類產品，芯碩的「光刻機」具有污染小、產能高、運行成本低、應用範圍廣、操作便捷等多項優勢。
芯碩半導體公司董事、副總裁胡亦寧預測，在今年７月、８月公司新廠房完工之後，預期每年可生產１００臺，其中６０％的產品將供應給海外市場。
中國半導體設備業是半導體和積體電路產業鏈中最薄弱的環節之一，但在此之前，國內對於半導體晶片製造中最核心的設備——光刻機的需求，卻全部依賴進口，國產品牌的亞微米級光刻機還是空白。芯碩半導體公司生產的直寫式光刻機將為中國光刻機技術的發展奠定堅實基礎。
此外，相關負責人表示，該公司計劃今年年底生產第一台掩膜式光刻機，繼續向高端半導體技術進行挑戰。
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